光伏技术
 
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    我们拥有太阳能电池方面的资深专家所组成的技术团队,可为用户提供人性化的服务与优秀的品质保证。在太阳能电池多年的研究和实践经验中,我们对于合作伙伴的合作给予高度重视,使客户的需求得到充分的满足。

 
 
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太阳能光伏产品以太阳光为能源,白天通过太阳能电池组件接受太阳辐射,将光能转换成电能,并在控制器的管理下不断向蓄电池充电,使用时,控制器根据设定的程序将蓄电池中的电能释放出来向用电设备供电.加装带有保护装置的逆变器,即可具备向交流设备供电的功能. 
1. TCO
TCO为绒面SnO2:F薄膜,它可由化学气相沉积(CVD)工艺来制备,制备选用平直度好、透射率高、新鲜、无污染、无水腐蚀的浮法玻璃做衬底,将其切割成上述计算的面积大小,洗涤烘干后送入CVD炉开始沉积,发生的化学反应如下: 
2. PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)即“等离子增强型化学气相沉积”,是一种化学气相沉积。
PECVD原理:
PECVD技术原理是利用低温等离子体作能量源,样品置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在样品表面形成固态薄膜。PECVD方法区别于其它CVD方法的特点在于等离子体中含有大量高能量的电子,它们可以提供化学气相沉积过程所需的激活能。电子与气相分子的碰撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程,生成活性很高的各种化学基团,因而显著降低CVD薄膜沉积的温度范围,使得原来需要在高温下才能进行的CVD过程得以在低温下实现。
PECVD特点:
PECVD的一个基本特征是实现了薄膜沉积工艺的低温化(<450℃)。因此带来的好处:
Ø      节省能源,降低成本
Ø      提高产能
Ø      减少了高温导致的硅片中少子寿命衰减 
3.Sputter
Sputter的特点是成膜速率高,基片温度低,膜的粘附性好,可实现大面积镀膜。该技术可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法。
Sputter设备:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。
4. 激光划线
激光划线机1


工艺:这一步主要是划刻氧化锡

工艺:这一步主要是划刻非晶硅a-Si
激光划线机3

工艺:这一步主要是划刻铝或者银以及氧化锌膜,使用的532纳米波长的绿激光器

         
 
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